影響膜層質(zhì)量因素1.基底表面光潔度2.真空度3.基底溫度4.蒸發(fā)速率5.公轉(zhuǎn)速度6.環(huán)境濕度7.環(huán)境潔凈度膜層中灰塵點(diǎn)1.存儲(chǔ)和工作環(huán)境差2.凈化臺贓3.看不見的微小灰塵點(diǎn)未清洗干凈4.產(chǎn)品放置時(shí)間過長5.真空室內(nèi)臟6.夾具脹膜層中的濺點(diǎn)1.電子槍蒸發(fā)速率過大,導(dǎo)致暴蒸2.膜料預(yù)熔不充分3.膜料被打穿4.電子槍光斑位置打偏5.膜料不純6.電子槍打火7.離子源臟8.鍍膜過程移動(dòng)光斑膜層中的色斑1.清洗時(shí)留下的水印2.濕氣污染留下的印跡3.真空室臟4.人為失誤導(dǎo)致手印脫膜1.基底溫度不夠,恒溫時(shí)間不足2.鍍膜時(shí),真空度不夠3.水氣污染4.基底原因--—可能是轉(zhuǎn)動(dòng)不正常5.真空內(nèi)被油質(zhì)污染6.蒸發(fā)速率異常7.鍍膜過程無離子源輔助