拋光液分析分析
拋光液是一種不含硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑,在金屬加工等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。它不僅能去除油污、清洗金屬表面,還具備防銹功能,可讓金屬呈現(xiàn)真實(shí)光澤。在半導(dǎo)體制造的化學(xué)機(jī)械拋光過程中,拋光液更是主要耗材,占比超50%。對(duì)其進(jìn)行成分分析,需經(jīng)過標(biāo)準(zhǔn)樣品溶液配制、物理表征測(cè)試等一系列科學(xué)步驟,這對(duì)科研及生產(chǎn)意義重大 。
在半導(dǎo)體制造的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)環(huán)節(jié),拋光液發(fā)揮著不可替代的作用。CMP作為晶圓制造過程中的關(guān)鍵平坦化步驟,通過化學(xué)腐蝕與機(jī)械研磨,塑造出光潔的平面。每一片晶圓的生產(chǎn)都要?dú)v經(jīng)多道CMP拋光工藝,而拋光液作為主要耗材,其重要性不言而喻。
從市場(chǎng)規(guī)模來看,全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的蓬勃擴(kuò)張有力帶動(dòng)了CMP拋光液行業(yè)的發(fā)展。在2017 - 2023年期間,全球CMP拋光液市場(chǎng)規(guī)模從12.7億美元攀升至21.5億美元,年復(fù)合增長率達(dá)9%;我國市場(chǎng)規(guī)模也從14.9億元增長到29.6億元,年復(fù)合增長率為12.12%。隨著芯片制程不斷縮小,CMP工藝數(shù)量急劇增加,先進(jìn)制程產(chǎn)能投入加大,對(duì)拋光液的需求也在改變。不僅對(duì)研磨顆粒的要求日益提高,工藝次數(shù)的增多也使得用量大幅增大,這都導(dǎo)致了CMP拋光液價(jià)格的走高。
拋光液產(chǎn)業(yè)鏈涵蓋上下游多個(gè)環(huán)節(jié)。上游包含研磨顆粒和化學(xué)試劑材料等關(guān)鍵部分,中游是生產(chǎn)環(huán)節(jié),而下游則廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。全球范圍內(nèi),像陶氏化學(xué)等企業(yè)在拋光液市場(chǎng)占據(jù)重要地位,國內(nèi)的安集科技等企業(yè)也展現(xiàn)出強(qiáng)勁的發(fā)展勢(shì)頭。
總之,拋光液憑借其獨(dú)特的性能,在金屬加工尤其是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域有著重要地位。對(duì)其成分分析的探索以及市場(chǎng)產(chǎn)業(yè)鏈的研究,有助于我們更好地把握這一行業(yè)的發(fā)展脈搏,為相關(guān)科研與生產(chǎn)提供有力支持,推動(dòng)行業(yè)不斷向前發(fā)展 。
(圖/文/攝:太平洋汽車 整理于互聯(lián)網(wǎng))
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