還原爐底盤(pán)有哪些特點(diǎn)?
還原爐底盤(pán)具有以下特點(diǎn):
1. 結(jié)構(gòu)復(fù)雜且精細(xì):包括底盤(pán)主體,主體內(nèi)又分相對(duì)間隔設(shè)置的第一底盤(pán)、第二底盤(pán)和第三底盤(pán),形成了冷卻腔室和進(jìn)氣腔室。
2. 進(jìn)氣與導(dǎo)流設(shè)計(jì)獨(dú)特:第三底盤(pán)設(shè)有進(jìn)氣孔向進(jìn)氣腔室通氣,冷卻腔室內(nèi)設(shè)置多個(gè)同心間隔的導(dǎo)流環(huán)板,形成導(dǎo)流通道,使氣體均勻進(jìn)入還原爐。
3. 環(huán)隙與擋板設(shè)置:第一底盤(pán)和第二底盤(pán)分別形成多個(gè)環(huán)隙,導(dǎo)流環(huán)板一端與環(huán)隙連通,其位于還原爐內(nèi)的一端端部設(shè)有擋板,能遮擋導(dǎo)流通道部分。
4. 功能多樣的部件:導(dǎo)流環(huán)板一端還設(shè)置有換向環(huán)板、延長(zhǎng)環(huán)板等,電極外設(shè)置套筒,底盤(pán)上有排氣管、冷卻水循環(huán)管等。
5. 多種分布方式:如進(jìn)氣口組、還原尾氣出口組、電極基座組沿盤(pán)體的徑向間隔開(kāi)設(shè)置,且有交替設(shè)置的情況。
6. 數(shù)量與間距設(shè)置:進(jìn)氣孔、電極基座、進(jìn)氣口、還原尾氣出口等數(shù)量有具體設(shè)定,電極基座組的相鄰電極基座在底盤(pán)周向上有特定間距。
7. 組合與分層設(shè)計(jì):有的底盤(pán)包括第一盤(pán)體和第二盤(pán)體,兩者限定出冷卻腔。
8. 提高生產(chǎn)效果:能使原料氣體更均勻地進(jìn)入還原爐,提高流場(chǎng)和溫度分布均勻性,有利于硅棒沉積,改善硅棒表面質(zhì)量,避免倒棒、硅棒偏心等現(xiàn)象。
(圖/文/攝:太平洋汽車 整理于互聯(lián)網(wǎng))
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